Poremizing Quick Clay Stick Mask Masque Purifiant en Stick SKIN1004 – Madagascar Centella 27 g

Le Madagascar Centella Poremizing Quick Clay Stick Mask de SKIN1004 est un masque purifiant conçu pour les peaux sujettes aux brillances, aux pores visibles et à l’accumulation d’impuretés. Sa formule associe des argiles absorbantes à des ingrédients d’origine végétale pour nettoyer la surface de la peau, améliorer son aspect et retrouver un teint plus frais.

1. Un complexe de 5 argiles pour absorber l’excès de sébum

La formule contient cinq types d’argiles et de minéraux qui contribuent à purifier la peau :

• Kaolin (18 %) : argile douce reconnue pour sa capacité à absorber l’excès de sébum et les impuretés présentes à la surface de la peau. Elle aide à réduire l’aspect brillant et à obtenir un fini plus net.
• Bentonite : argile absorbante qui contribue à capter le sébum et les impuretés.
• Illite : argile minérale utilisée dans les masques purifiants pour ses propriétés absorbantes.
• Montmorillonite : argile qui participe à l’absorption des impuretés et à la purification de la surface cutanée.
• Sels minéraux : complètent le complexe minéral de la formule.

Cette combinaison aide à désobstruer visuellement les pores et à rendre le grain de peau plus uniforme.

2. La poudre de haricot rouge pour exfolier délicatement

La formule contient de la poudre de graines de haricot rouge (Phaseolus Angularis Seed Powder), finement broyée.

Cet ingrédient apporte une action exfoliante mécanique douce qui aide à éliminer les cellules mortes accumulées à la surface de la peau. Il contribue ainsi à améliorer la texture cutanée et à retrouver une peau plus lisse.

3. La Centella Asiatica pour apaiser la peau

Originaire de Madagascar, la Centella Asiatica est un ingrédient emblématique des soins coréens, particulièrement apprécié pour ses propriétés apaisantes.

Elle contribue à apporter du confort à la peau pendant le soin et complète l’action purifiante des argiles.

4. L’aloe vera et les agents hydratants

Pour compléter sa formule, le masque contient également :

• Aloe Barbadensis Leaf Extract : extrait d’aloe vera apprécié pour ses propriétés apaisantes et hydratantes.
• Glycérine : agent humectant qui aide à retenir l’eau dans les couches superficielles de la peau.
• Butylene Glycol et Dipropylene Glycol : agents qui contribuent à maintenir une texture agréable et à apporter de l’hydratation.

Le résultat : une peau débarrassée de l’excès de sébum et des impuretés superficielles, avec un grain de peau visiblement plus lisse et un aspect plus frais.